FILTR UV Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 49 mm 49mm
Opis
Filtr ultrafioletowy UV NANO-X MRCUltra-Low ReflectionRozmiar filtra: 49 mmFILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCIDEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓWFILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMIBardzo niski współczynnik odbicia 0,1%, eliminuje 99,9% spolaryzowanego światła i ma bardzo wysoką przepuszczalnośćNowa technologia powlekania tytanem (powłoka tytanowa) sprawnie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazuFiltr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazuUltra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnychSuper niski profil typu SLIM (jedyne 3,3mm grubości)Pierścień wykonany z aluminium czernionego galwanicznieW zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtraProdukt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznychMODEL: KF01.2460 / 49 mm NANO X UV Ultra Low ReflectionFirma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.
Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.
Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.
Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.
Cechy filtru K&F UV NANO-X MRC:Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć.
Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń.
Doskonały stosunek jakości do ceny.
Filtr UV NANO-X MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 49 mm.
Filtr dedykowany jest m.in. do następujących aparatów:Aparatów Sony:NEX-3NEX-3CNEX-3NNEX-5NEX-5CNEX-5NNEX-5RNEX-5TNEX-6NEX-7NEX-C3NEX-F3NEX-VG10A3000A3500A5000A5100A6000A6100A6300A6400A6500A6600z obiektywami E 3.5-5.6/18-55 OSS lub E 2.8/16Konica Minolta A1 / A2 / A200ObiektywówSonySEL-35F18SAL-28F28SEL-24F18ZSEL-16F28SEL-20F28SAL-30M28SEL-55210SEL-1855SAL-50F18SEL-50F18SEL-30M35PentaxSMC Pentax-DA 50-200mm F4-5.6 ED WRSMC Pentax-D FA 50mm F2.8 MacroSMC Pentax-D FA 100mm F2.8 MacroSMC Pentax-D FA 100mm F2.8 Macro WRSMC Pentax-DA 15mm F4 ED AL LimitedSMC Pentax-DA 35mm F2.4 ALSMC Pentax-DA 35mm F2.8 Limited MacroSMC Pentax-DA 70mm F2.4 LimitedSPECYFIKACJA FILTRA:Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznegoNANO-X MRC - Nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronneNie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralnySuper cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 3,3mmTytanowa powłokaBrak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUSSolidne pudełko ochronne na filtr w zestawieFiltr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkachFiltr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeńW zestawie:1x filtr1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtraPrzykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT NANO-X MRCUwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.
Produkt fabrycznie nowy, w oryginalnym opakowaniu.