FILTR UV Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 55 mm 55mm
Opis
Filtr ultrafioletowy UV NANO-X MRCUltra-Low ReflectionRozmiar filtra: 55 mmFILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCIDEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓWFILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMIBardzo niski współczynnik odbicia 0,1%, eliminuje 99,9% spolaryzowanego światła i ma bardzo wysoką przepuszczalnośćNowa technologia powlekania tytanem (powłoka tytanowa) sprawnie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazuFiltr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazuUltra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnychSuper niski profil typu SLIM (jedyne 3,3mm grubości)Pierścień wykonany z aluminium czernionego galwanicznieW zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtraProdukt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznychMODEL: KF01.2462 / 55 mm NANO X UV Ultra Low ReflectionFirma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.
Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.
Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.
Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.
Cechy filtru K&F UV NANO-X MRC:Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć.
Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń.
Doskonały stosunek jakości do ceny.
Filtr UV NANO-X MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 55 mm.
Filtr dedykowany jest m.in. do następujących aparatów:NIKON D5500 / D5300 / D5200 / D3400 / D3300 / D3200 z obiektywami: Nikon / Nikkor AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G lub Nikon / Nikkor AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G VRFiltr pasuje m.in do aparatów posiadających następujące modele obiektywów:Nikon:NIKKOR AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6GNIKKOR AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G VRNIKKOR VR 10–100 mm f/4,0–5,6Sony:18-70mm F3.5-5.6DT 18-55mm F3.5-5.6 SAMSAL-1855-2SAL-1855SAL-35F14GSAL-35F18SAL-50F14SAL-50M28SAL-85F28SAL-75300SAL-55200-2SAL-100M28Tamron:AF 60mm F/2 Di II LD (IF) Macro 1:1AF 90mm SP F/2.8 Di MakroSigma:50-200 F4-5.6 DC OS HSM50 F2.8 EX DG MACROSPECYFIKACJA FILTRA:Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznegoNANO-X MRC - Nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronneNie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralnySuper cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 3,3mmTytanowa powłokaBrak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUSSolidne pudełko ochronne na filtr w zestawieFiltr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkachFiltr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeńW zestawie:1x filtr1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtraPrzykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT NANO-X MRCUwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.
Produkt fabrycznie nowy, w oryginalnym opakowaniu.
Kod produktu (SBkod): SB8552