Filtropochłaniacz Filtr Climax Abekp3 Do Masek Półmasek 756/732

Opis

CLIMAX ABEKP3 RDFILTROPOCHŁANIACZ DO MASEK 756/732 1 SZT.

WYDAJNOŚĆ I BEZPIECZEŃSTWOSKUTECZNA OCHRONA UKŁADU ODDECHOWEGO✅ochrona: pary organiczne, gazy nieorganiczne, gazy kwaśne, amoniak i pochodne, zapylenie do 30xNDS*✅zgodność: półmaska 756✅kategoria: klasa 1✅wydajność: klasa P3Filtropochłaniacz półmaski wielokrotnego użytku Climax 756 lub pełnotwarzowej maski wielokrotnego użytku Climax 732, wykonanych z lekkich, wysoce odpornych materiałów, niewpływających ujemnie w jakikolwiek sposób na zdrowie użytkownika. Półmaska i maska zapewniają komfortową pracę w każdych warunkach, nie krępując ruchów i nie ograniczając widoczności. Przez cały okres użytkowania zapewniają maksymalną ochronę.

Kategorie filtrów gazowych wg EN 14387:2004:klasa 1: niska wydajność, maks. koncentracja gazu: 1000 ppm (0,1%),klasa 2: średnia wydajność, maks. koncentracja gazu: 5000 ppm (0,5%).

Wydajność filtrów cząstek wg EN 143:klasa P3: wysoka wydajność (przeciw cząstkom stałym i płynnym również cząstkom radioaktywnym i mikroorganizmom).

ZASTOSOWANIEPochłaniacz Climax typu ABEKP3 RD chroni układ oddechowy przed oparami organicznymi i rozpuszczalnikami o punkcie wrzenia wyższym niż 65*C, gazami i parami nieorganicznymi (chlor, siarkowodór, cyjanowodór), dwutlenkiem siarki oraz amoniakiem i organicznymi pochodnymi amoniaku, a także cząstkami (pyłami i aerozolami).

Przykładowe substancje, przed którymi chronią pochłaniacze ABEKP3 RD:aluminium,amoniak,benzyna,chlor,cyjanek potasu,eter naftowy,gliceryna,nafta,ozon,talk,i wiele innych.

SPOSÓB UŻYCIAPółmaska i maska nie dostarcza tlenu. W żadnym razie nie wolno używać półmaski i maski, gdy zawartość tlenu w powietrzu jest niższa niż 17%.*NDS - Najwyższe Dopuszczalne Stężenie - stężenie substancji, średnie ważone, którego oddziaływanie na użytkownika w ciągu 8-godzinnego dobowego i 42-godzinnego tygodniowego wymiaru czasu pracy przez okres jego aktywności zawodowej nie powinno spowodować ujemnych zmian w jego stanie zdrowia oraz w jego przyszłych pokoleniach.