FILTR UV Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 52 mm 52mm

Opis

Filtr ultrafioletowy UV NANO-X MRCUltra-Low ReflectionRozmiar filtra: 52 mmFILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCIDEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓWFILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMIBardzo niski współczynnik odbicia 0,1%, eliminuje 99,9% spolaryzowanego światła i ma bardzo wysoką przepuszczalnośćNowa technologia powlekania tytanem (powłoka tytanowa) sprawnie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazuFiltr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazuUltra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnychSuper niski profil typu SLIM (jedyne 3,3mm grubości)Pierścień wykonany z  aluminium czernionego galwanicznieW zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtraProdukt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznychMODEL: KF01.2461 / 52 mm NANO X UV Ultra Low ReflectionFirma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.

Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.

Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.

Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.

Cechy filtru K&F UV NANO-X MRC:Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć.

Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń.

Doskonały stosunek jakości do ceny.

Filtr UV NANO-X MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 52 mm.

Filtr pasuje m.in do aparatów posiadających następujące modele obiektywów:Canon:EF-M 18-55mm f/3.5-5.6 IS STMEF 40mm f/2.8 STMEF 50mm f/1.8 IIEF 50mm f/2.5 Compact MacroEF-S 60mm f2.8 Macro USMEF-S 60mm f2.8 Macro USMEF 135mm f/2.8 (with Softfocus)Nikon:18-55 mm f/3,5-5,6G AF-S VR DX NIKKOR18-55 mm f/3,5-5,6GII AF-S DX NIKKOR55-200 mm f/4-5,6 AF-S VR DX NIKKOR55-200 mm f/4-5,6G ED AF-S DX NIKKOR24mm f/2.8D AF NIKKOR35 mm f/2D AF NIKKOR50 mm f/1,8D AF NIKKOR50 mm f/1,4D AF NIKKORAF-S DX 35 mm f/1,8G NIKKORAF-S DX Micro 85 mm f/3,5G ED VR NIKKORAF-S DX Micro 40 mm f/2,8G NIKKORAS-S 24mm f/2,8D1 NIKKOR VR 6,7–13 mm f/3,5–5,6Pentax:SMC Pentax-DA 18-55mm F3.5-5.6 ALSMC Pentax-DA L 18-55mm F3.5-5.6 ALSMC Pentax-DA 18-55mm F3.5-5.6 AL IISMC Pentax-DA 18-55mm F3.5-5.6 AL WRSMC Pentax-DA 50mm F1.8SMC Pentax-DA 50-200mm F4-5.6 EDOlympus:M.

ZUIKO DIGITAL ED 9-18mm 1:4.0-5.6M.

ZUIKO DIGITAL ED 12-50mm 1:3.5-6.3 EZZUIKO DIGITAL 35mm Makro 1:3.5ZUIKO DIGITAL ED 50mm Makro 1:2.0Panasonic:LUMIX G Vario 14-45mm / F3.5-5.6 ASPH. / MEGA O.

I.

SLUMIX G X Vario 45-200mm f/4-5,6 MEGA O.

I.

SLUMIX G Vario 45-150mm/F4.0-5.6 ASPH./MEGA O.

I.

S.

Fuji:XF18mm F2 RXF35mm F1.4 RTamron:AF 55-200mm F/4-5.6 Di II LD MacroSamsung:NNX 50-200mm 4.0-5.6 ED OIS T50200SBSPECYFIKACJA FILTRA:Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznegoNANO-X MRC - Nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronneNie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralnySuper cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 3,3mmTytanowa powłokaBrak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUSSolidne pudełko ochronne na filtr w zestawieFiltr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych wa